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氧化硅爐設(shè)備

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氧化方法有干氧氧化和水汽氧化(含氫氧合成)兩種,擴(kuò)散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設(shè)備。擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體集成電路工藝的基礎(chǔ)設(shè)備,它與半導(dǎo)體工藝互相依存、互相促進(jìn)、共同發(fā)展...

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