本實(shí)用新型涉及一種石英坩堝,尤其是涉及一種具有鋇涂層的石英坩堝。背景技術(shù):用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的...2.現(xiàn)代的石英坩堝 現(xiàn)代拉單晶的石英坩堝一般是采用電弧法生產(chǎn),半透明狀,是拉制由于硅酸鋇的存在,使得石

2.現(xiàn)代的石英坩堝 現(xiàn)代拉單晶的石英坩堝一般是采用電弧法生產(chǎn),半透明狀,是拉制由于硅酸鋇的存在,使得石英坩堝壁上形成一層致密微小的方石英結(jié)晶...1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。 用電弧法制的半透明石英坩堝氧化鋇溶液使其形成致密層,其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反

答案: 首先,氧的的主要來源是熔硅與石英坩堝反應(yīng),99%的氧揮發(fā)掉,1%的隨單晶的生長(zhǎng),進(jìn)入硅棒中,所以和是否涂層沒有關(guān)系,除非不用坩堝,但是不可能的。 更多關(guān)于石英坩堝電弧鋇的問題>>...答案: 1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今,世界更多關(guān)于石英坩堝電弧鋇的問題>>

這層氫氧化鋇會(huì)與空氣中的二氧化碳反應(yīng)形成碳酸鋇。而當(dāng)這種石英坩堝在單晶爐上被加熱時(shí),碳酸鋇會(huì)分解形成氧化鋇,隨著氧化鋇與石英坩堝反應(yīng)形成硅酸鋇...這是因?yàn)殇^在硅中的平衡偏析系數(shù)非常小,使得它在硅晶棒中的濃度也很小,因而不會(huì)影響晶棒的品質(zhì)。通常的做法是將石英坩堝壁涂上一層含有結(jié)晶水的氫氧化鋇飽和的

答案: 氫氧化鋇分為一水和八水的,用于石英坩堝潤(rùn)滑的必須是八水的效果,于多晶硅還有另外一種試劑更多關(guān)于石英坩堝電弧鋇的問題>>...高品質(zhì)石英坩堝生產(chǎn)商,在生產(chǎn)石英坩堝過程中,往往會(huì)采用涂鋇工藝,來改善坩堝的質(zhì)量!氫氧化鋇,含有結(jié)晶水的粉狀或粒狀的晶體,要求純度達(dá)到99.99%,是